各省、自治區(qū)、直轄市、計(jì)劃單列市財(cái)政廳(局)、國(guó)家稅務(wù)局，新疆生產(chǎn)建設(shè)兵團(tuán)財(cái)務(wù)局，海關(guān)總署廣東分署、各直屬海關(guān)：
　　為了鼓勵(lì)科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā)，促進(jìn)科技進(jìn)步，經(jīng)國(guó)務(wù)院批準(zhǔn)，對(duì)外資研發(fā)中心進(jìn)口科技開發(fā)用品免征進(jìn)口稅收，對(duì)內(nèi)外資研發(fā)機(jī)構(gòu)采購(gòu)國(guó)產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅?，F(xiàn)將有關(guān)事項(xiàng)具體明確如下：
　　一、外資研發(fā)中心適用《科技開發(fā)用品免征進(jìn)口稅收暫行規(guī)定》(財(cái)政部、海關(guān)總署、國(guó)家稅務(wù)總局令第44號(hào))免征進(jìn)口稅收，根據(jù)其設(shè)立時(shí)間，應(yīng)分別滿足下列條件：
　　(一)對(duì)2009年9月30日及其之前設(shè)立的外資研發(fā)中心，應(yīng)同時(shí)滿足下列條件：
　　1．研發(fā)費(fèi)用標(biāo)準(zhǔn)：(1)對(duì)新設(shè)立不足兩年的外資研發(fā)中心，作為獨(dú)立法人的，其投資總額不低于500萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的，其研發(fā)總投入不低于500萬美元；(2)對(duì)設(shè)立兩年及以上的外資研發(fā)中心，企業(yè)研發(fā)經(jīng)費(fèi)年支出額不低于l000萬元。
　　2．專職研究與試驗(yàn)發(fā)展人員不低于90人。
　　3．設(shè)立以來累計(jì)購(gòu)置的設(shè)備原值不低于1000萬元。
　　(二)對(duì)2009年10月1日及其之后設(shè)立的外資研發(fā)中心，應(yīng)同時(shí)滿足下列條件：
　　1．研發(fā)費(fèi)用標(biāo)準(zhǔn)：作為獨(dú)立法人的，其投資總額不低于800萬美元；作為公司內(nèi)設(shè)部門或分公司的，其研發(fā)總投入不低于800萬美元。
　　2．專職研究與試驗(yàn)發(fā)展人員不低于150人。
　　3．設(shè)立以來累計(jì)購(gòu)置的設(shè)備原值不低于2000萬元。
　　具體審核辦法由商務(wù)部會(huì)同財(cái)政部、海關(guān)總署、國(guó)家稅務(wù)總局另行制定。
　　二、適用采購(gòu)國(guó)產(chǎn)設(shè)備全額退還增值稅政策的內(nèi)外資研發(fā)機(jī)構(gòu)包括：
　　(一)《科技開發(fā)用品免征進(jìn)口稅收暫行規(guī)定》(財(cái)政部、海關(guān)總署、國(guó)家稅務(wù)總局令第44號(hào))規(guī)定的科學(xué)研究、技術(shù)開發(fā)機(jī)構(gòu)。
　　(二)《科學(xué)研究和教學(xué)用品免征進(jìn)口稅收規(guī)定》(財(cái)政部、海關(guān)總署、國(guó)家稅務(wù)總局令第45號(hào))規(guī)定的科學(xué)研究機(jī)構(gòu)和學(xué)校。
　　(三)符合本通知第一條規(guī)定條件的外資研發(fā)中心。
　　具體退稅管理辦法由國(guó)家稅務(wù)總局會(huì)同財(cái)政部另行制定。
　　三、本通知所述設(shè)備，是指本通知附件所列的為科學(xué)研究、教學(xué)和科技開發(fā)提供必要條件的實(shí)驗(yàn)設(shè)備、裝置和器械。    ’
　　四、本通知執(zhí)行期限為2009年7月1日至2010年12月31日。

　　附件：科技開發(fā)、科學(xué)研究和教學(xué)設(shè)備清單

　　                                                              財(cái)政部 海關(guān)總署 國(guó)家稅務(wù)總局
　　                                                                    二00九年十月十日


　　附件：
　　                               科技開發(fā)、科學(xué)研究和教學(xué)設(shè)備清單

　　為科學(xué)研究、教學(xué)和科技開發(fā)提供必要條件的實(shí)驗(yàn)設(shè)備、裝置和器械(不包括中試設(shè)備)，具體包括以下三類：
　　一、實(shí)驗(yàn)環(huán)境方面
　　(一)教學(xué)實(shí)驗(yàn)儀器及裝置；   
　　(二)教學(xué)示教、演示儀器及裝置；
　　(三)超凈設(shè)備(如換氣、滅菌、純水、凈化設(shè)備等)；
　　(四)特殊實(shí)驗(yàn)環(huán)境設(shè)備(如超低溫、超高溫、高壓、低壓、強(qiáng)腐蝕設(shè)備等)；
　　(五)特殊電源、光源(如電極、開關(guān)、線圈、各種光源等)；
　　(六)清洗循環(huán)設(shè)備；
　　(七)恒溫設(shè)備(如水浴、恒溫箱、滅菌儀等)；
　　(八)小型粉碎、研磨制備設(shè)備。
　　二、樣品制備設(shè)備和裝置
　　(一)特種泵類(如分子泵、離子泵、真空泵、蠕動(dòng)泵、蝸輪泵、干泵等)；
　　(二)培養(yǎng)設(shè)備(如培養(yǎng)箱、發(fā)酵罐等)；
　　(三)微量取樣設(shè)備(如移液管、取樣器、精密天平等)；
　　(四)分離、純化、濃縮設(shè)備(如離心機(jī)、層析、色譜、萃取、結(jié)晶設(shè)備、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器等)；
　　(五)氣體、液體、固體混合設(shè)備(如旋渦混合器等)；
　　(六)制氣設(shè)備、氣體壓縮設(shè)備；
　　(七)專用制樣設(shè)備(如切片機(jī)、壓片機(jī)、鍍膜機(jī)、減薄儀、拋光機(jī)等)，實(shí)驗(yàn)用注射、擠出、造粒、膜壓設(shè)備；實(shí)驗(yàn)室樣品前處理設(shè)備；
　　(八)實(shí)驗(yàn)室專用小器具(如分配器、量具、循環(huán)器、清洗器、工具等)。
　　三、實(shí)驗(yàn)室專用設(shè)備
　　(一)特殊照相和攝影設(shè)備(如水下、高空、高溫、低溫等)；
　　(二)科研飛機(jī)、船舶用關(guān)鍵設(shè)備和部件；
　　(三)特種數(shù)據(jù)記錄設(shè)備及材料(如大幅面掃描儀、大幅面繪圖儀、磁帶機(jī)、光盤機(jī)等)；
　　(四)特殊電子部件(如電路板、特種晶體管、專用集成電路等)；
　　(五)材料科學(xué)專用設(shè)備(如干膠儀、特種坩堝、陶瓷、圖形轉(zhuǎn)換設(shè)備、制版用干板、特種等離子體源、離子源、外延爐、擴(kuò)散爐、濺射儀、離子刻蝕機(jī)，材料實(shí)驗(yàn)機(jī)等)，可靠性試驗(yàn)設(shè)備，微電子加工設(shè)備，通信模擬仿真設(shè)備，通信環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備；
　　(六)小型熔煉設(shè)備(如真空、粉末、電渣等)，特殊焊接設(shè)備；
　　(七)小型染整、紡絲試驗(yàn)專用設(shè)備；
　　(八)電生理設(shè)備。